尽管薄膜电池相对硅电池的效率较低，但是其使用的半导体层物料也仅仅是硅电池的百分之一，而且薄膜电池可以通过大面积镀膜的方法获得更低成本的优势。薄膜电池的主要膜层通常通过物理气相沉积(PVD)或等离子增强化学气相沉积(PECVD)的工艺来制造。
　　在目前10大太阳能电池制造生产线设备中，国产设备已能提供其中的8种，而物理气相沉积(PVD)或等离子增强化学气相沉积(PECVD)设备正是其中只能依赖进口的两种主要设备之一。
　　日前在上海举行的太阳能光伏大会上，德国冯•阿登纳真空技术有限公司推出了结合其核心技术玻璃镀膜工艺导电层技术创新而来的光伏电池涂层薄膜沉积工艺（PVD）设备PIA|nova，据称该系统设备可适用于目前所有光电薄膜技术产品的试制和大规模生产。
　　冯•阿登纳是全球卓越的真空加工设备和零部件供应商，总部位于德国德累斯顿，拥有80多年的发展历史，在真空领域具有丰富的经验和出色的业绩，其在光伏领域的核心竞争力正是基于PVD技术的薄膜沉积设备。
　　据冯•阿登纳真空技术有限公司的Mr. Karl-Heinz Mieske介绍， PIA|nova平台系统可以用于金属电极、透明导电氧化物电极及吸收层（例如铜铟镓硒薄膜电池）薄膜的沉积，是冯•阿登纳根据其在玻璃镀膜机生产中的成功经验开发出来的适合光伏薄膜沉积生产的工艺流程技术。该平台具有极强的兼容性，可以很方便地与上、下游工序以及设备相结合。其模块化的设计能够灵活地满足几乎所有的技术要求以及光电领域不同基材尺寸的需求。此外，冯阿登纳还力求提高溅射膜层特性以使客户达到更高的电池效能，在使用溅射工艺对TCO玻璃进行大面积镀膜时，可以显著降低成本。例如：将镀膜面积从1.4平方米增加到6.1平方米将节约成本35%。
　　目前，冯•阿登纳的客户已遍布世界各地。Mr. Karl-Heinz Mieske介绍说，尽管努力降低设备的成本也很重要，但冯•阿登纳认为更重要的是提高设备的产能和效率，并通过效率的提升来降低生产单元成本，这更有价值，冯•阿登纳一直在通过持续改进设备和工艺以支持客户达成降低成本和提升效率的目标。
Mr. Karl-Heinz Mieske表示，冯•阿登纳PVD工艺设备在整个薄膜电池行业拥有80%的占有率，这不仅表明冯•阿登纳具有强大的技术领先优势，同样也表明客户更看重的是生产效率和单位成本优势。
　　作为全球主要的玻璃生产设备供应商，冯•阿登纳原本在中国市场就拥有庞大的客户群，当中国逐渐成全球光伏产业主要生产国时，中国市场对于冯•阿登纳来讲就有着更为重要的战略地位。Mr. Karl-Heinz Mieske表示，冯•阿登纳针对中国市场的重视的确已经升级，这体现在本地化服务和本地化技术支持方面。目前，冯•阿登纳已在上海设立了冯•阿登纳真空设备（上海）有限公司，并在国内拥有强大的销售和服务网络。
　　未来几年，亚洲特别是中国将是全球光伏产业最为关注的市场，科学家家族出身的德国冯•阿登纳真空技术有限公司显然早已做好了布局准备。


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